一、CRES的真实身份

CRES其实是半导体制造中的专业术语缩写，全称为Chemical Residue Elimination System（化学残留清除系统）。它特指芯片制造中化学机械研磨（CMP）后的关键清洗步骤，就像给芯片做精密SPA，专门清除研磨后残留的纳米级颗粒和化学试剂。

二、为什么需要CRES技术

1. 纳米级清洁需求：现代芯片电路线宽仅几纳米，相当于头发丝的万分之一，任何残留都会导致电路短路

2. 材料兼容性挑战：清洗既要彻底又不能损伤铜互连层等敏感结构

3. 工艺衔接要求：为后续光刻、沉积等工序提供绝对清洁的表面

三、CRES的技术进化

从早期的超声波清洗到现在的超临界COS22;清洗，CRES技术持续迭代。较新技术采用气溶胶喷射和等离子活化水，能在30秒内清除99.999%的残留物，同时将水耗降低80%，成为7nm以下制程的标配工艺。

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